在电子科技的迅猛发展的今天，同样也带动了空气洁净产业的发展。从2003年130nm工艺到2005年的90nm工艺以及2007年的50nm工艺、2009年的34nm工艺以至现在的25nm工艺。线间距越来越小，同样的洁净度等级要求也越来越高。